Canon desafía a ASML con su tecnología de nanoimpresión
Canon, gigante japonés de imagen, está a punto de comercializar una nueva tecnología litográfica que, según afirma, consume un 90 por ciento menos de energía que las máquinas de ultravioleta extrema (UVE) de ASML, dominantes en el mercado.
Canon lleva 15 años desarrollando su tecnología litográfica de nanoimpresión. Cree que esta tecnología puede alterar el equilibrio de poder en el ámbito del grabado de obleas. De hecho, Canon fue históricamente fuerte en la litografía de semiconductores, pero perdió cuando la empresa holandesa ASML apostó por la UVE y ganó.
Las máquinas UVE, que graban chips con UVE (luz ultravioleta extrema), son extraordinariamente complejas y caras. Cuestan unos 150 millones USD cada una. Pero son las únicas capaces de soportar la fabricación de chips avanzados.
La nueva tecnología de Canon adopta un enfoque diferente. En lugar de utilizar luz ultravioleta, las máquinas de nanoimpresión simplemente estampan los diseños de los chips en obleas de silicio, una alternativa más asequible y que consume menos recursos. El proceso elimina la lente de proyección utilizada por UVE para reducir y proyectar patrones de circuitos, sustituyéndola por un molde al que se transfieren los patrones de circuitos. La máscara se presiona como un sello sobre la superficie de la oblea para reproducir patrones de alta resolución.
Según un artículo publicado en el FT, Canon tiene previsto comercializar sus primeras máquinas este año. Se informó que las máquinas admiten chips de 5 nanómetros (nm) y que Canon se centrará primero en producir chips de memoria Nand 3D, antes de ampliar su producción a microprocesadores más complejos.
