¿Huawei inventó una tecnología para saltarse la litografía ultravioleta extrema (EUV)?

Según Bloomberg, la empresa tecnológica china ha presentado patentes para una técnica de cuádruple patrón autoalineable (SAQP). Con ello, es posible conseguir el estampado de transistores en los wafers de silicio, lo que, por lo general, es realizado con EUV.

Se dice que Huawei trabajó con SiCarrier, respaldada por el Estado, para presentar una patente que utiliza litografía ultravioleta profunda (DUV) junto con SAQP para alcanzar puntos de referencia comparables a los chips de 5 nanómetros.

Si esto resulta ser cierto, será un gran golpe para la industria china de chips, ya que ASML, la empresa líder en EUV del mundo, tiene prohibido vender sus equipos a empresas chinas por los controles de exportación estadounidenses.

La dependencia que China tiene con ASML se hizo evidente en diciembre, cuando las importaciones de equipos de litografía desde los Países Bajos aumentaron un 1050 % a $1.1 mil millones, debido a que las empresas locales se apresuraron a comprar equipos antes de las restricciones entrantes.