ASML e imec inauguran un laboratorio conjunto
Imec y ASML se unen con la apertura del Laboratorio de Litografía EUV Alta NA en Veldhoven, Países Bajos, un laboratorio dirigido conjuntamente por ambas empresas.
Tras un periodo de construcción e integración de varios años, el laboratorio está listo para ofrecer a los fabricantes líderes de chips lógicos y de memoria, así como a los proveedores de materiales y equipos avanzados, acceso al primer prototipo de escáner EUV Alta NA (TWINSCAN EXE:5000) y a las herramientas de procesamiento y metrología circundantes.
La apertura del laboratorio conjunto ASML-imec representa un hito en la preparación de la tecnología EUV Alta NA para la fabricación a gran volumen, la cual se prevé que ocurra entre 2025 y 2026.
Al dar acceso a los fabricantes líderes de chips lógicos y de memoria al prototipo de escáner EUV Alta NA y a las herramientas circundantes, imec y ASML les ayudan a reducir los riesgos de la tecnología y a desarrollar casos de uso privados de EUV Alta NA antes de que los escáneres estén operativos en sus fábricas de producción.
"La tecnología EUV Alta NA es el próximo hito en la litografía óptica, y promete la creación de patrones de líneas/espacios metálicos con un paso de 20 nm en una sola exposición, permitiendo así las próximas generaciones de chips DRAM. Esto mejorará el rendimiento, reducirá el tiempo de ciclo e incluso las emisiones de CO2 en comparación con los esquemas EUV 0,33 NA de múltiples patrones existentes. Por lo tanto, será un factor clave para impulsar la Ley de Moore hasta bien entrada la era del ångström. Ahora estamos encantados de explorar estas capacidades en la vida real, utilizando el prototipo de escáner EUV Alta NA", afirma Luc Van den hove, presidente y director general de imec, en un comunicado de prensa.
Para imec y sus socios, el Laboratorio de Litografía EUV Alta NA actuará como una extensión virtual de la sala limpia de 300 mm de la empresa en Lovaina.
"El Laboratorio de Litografía EUV Alta NA ASML-imec ofrece a nuestros clientes, socios y proveedores de EUV la oportunidad de acceder al sistema EUV Alta NA para el desarrollo de procesos mientras esperan a que su propio sistema esté disponible en sus fábricas. Este tipo de compromiso muy temprano con el ecosistema es único y podría acelerar de forma significativa la curva de aprendizaje de la tecnología y facilitar su introducción en la fabricación", añade Christophe Fouquet, presidente y director general de ASML.
