LEM amplía sus capacidades de I+D en Europa y Asia
Para satisfacer la creciente demanda de detección de corriente y voltaje el especialista en tecnología de medición eléctrica LEM ha abierto nuevas instalaciones de I+D.
LEM afirma en un comunicado de prensa que los dos nuevos sitios de investigación y desarrollo (I+D) en Munich y Shangai permitirán a la compañía incorporar mayor inteligencia en sus sensores. Al mismo tiempo, le permitirán tener bases de desarrollo más cercanas a los clientes clave.
Si bien el sitio de China estará equipado con el último equipo de laboratorio, el sitio en Alemania se centrará en el diseño de circuitos integrados específicos para aplicaciones (ASIC) y la tecnología de semiconductores para ayudar a acelerar la innovación de LEM en sensores de corriente integrados.
Esta última inversión en instalaciones adicionales de I+D en Europa y Asia sigue a la reciente inauguración por parte de LEM de una fábrica en Malasia que incorpora tecnología de fabricación avanzada. Con la fábrica de Penang, LEM está asegurando sus operaciones al mismo tiempo que diversifica su presencia global.
LEM ahora respalda esta inversión en capacidad de producción y entrega flexible con capacidades de I+D diseñadas para complementar el sitio existente en Lyon, Francia, y para desarrollar las actividades de I+D que ya estaban en curso en Sofía, Bulgaria, ahora en su nueva oficina en el centro de la ciudad.
Dirigido por Matthias Tänzer, el equipo de desarrollo en la nueva instalación de semiconductores de Munich trabajará en estrecha colaboración con el equipo de ICS existente de LEM en Ginebra, Suiza. Ya hay 10 empleados en Munich y este número aumentará de acuerdo con los planes de crecimiento de LEM para el sitio, continúa el comunicado de prensa.
En las instalaciones de Shanghai de 1.400 metros cuadrados, hoy en día hay 30 empleados con la capacidad de duplicar ese número en el futuro, muchos de los cuales participarán en I+D.
