TSI presenta el sistema Nano LPM para mejorar el monitoreo de UPW
El sistema Nano LPM ofrece una detección real de nanopartículas de 10 nanómetros (nm), proporcionando un monitoreo continuo y confiable de la calidad del UPW.
TSI Incorporated, un productor de instrumentos de medición de precisión, ha presentado el nuevo sistema TSI Nano LPM para impulsar el monitoreo de agua ultrapura (UPW) para la industria de semiconductores y resolver el problema de detectar partículas hasta un nivel que nunca antes se había logrado, dijo la compañía con sede en EE. UU.
El sistema Nano LPM ofrece una detección real de nanopartículas de 10 nanómetros (nm), proporcionando un monitoreo continuo y confiable de la calidad del UPW. Esta innovación permite a los fabricantes de semiconductores tomar decisiones en tiempo real basadas en datos antes de que la calidad y el rendimiento del producto se vean afectados, según un comunicado de prensa.
En la fabricación de semiconductores, el UPW es fundamental para tareas como la limpieza de wafers y equipos, el grabado y la eliminación de contaminantes, lo que afecta directamente la calidad de la producción. Las partículas tan pequeñas como 10 nm pueden comprometer el rendimiento, lo que hace que la detección en tiempo real sea una necesidad vital.
Las tecnologías ópticas tradicionales han tenido dificultades para detectar nanopartículas por debajo de 20 nm debido a las limitaciones del índice de refracción y la interferencia de microburbujas, lo que a menudo resulta en lecturas inconsistentes o inexactas.
El sistema Nano LPM de TSI aborda estas limitaciones con un enfoque patentado que garantiza la detección precisa de partículas de 10 nm, brindando a las instalaciones de semiconductores una herramienta de monitoreo robusta y consistente, dijo la compañía.
El sistema Nano LPM establece un nuevo estándar en el monitoreo de nanopartículas de UPW con su generador de partículas Nano LPM, que aerosoliza el UPW, secando con eficacia las gotas y aislando las nanopartículas sólidas, dijo TSI. Estas nanopartículas se analizan luego utilizando el contador de partículas de condensación a base de agua Nano LPM (CPC), optimizado para entornos de salas blancas.
"El sistema Nano LPM de TSI representa un avance significativo para los fabricantes de semiconductores que necesitan un monitoreo UPW confiable y en tiempo real a nivel de 10 nm", dijo Ketan Mehta, vicepresidente de gestión de productos y marketing de TSI. "Estamos orgullosos de ofrecer una tecnología innovadora que no solo garantiza el cumplimiento, sino que también eleva la calidad y el rendimiento del producto, transformando el control ambiental en una ventaja crítica para nuestros clientes".
