ASML mejora su fuente EUV para aumentar la producción de chips
ASML ha desarrollado una versión mejorada de la fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) para sus máquinas de litografía, que podría incrementar la producción de chips hasta en un 50% de aquí al final de la década, según informa Reuters. ASML es la única empresa que fabrica equipos comerciales de litografía EUV, a menudo descritos como “la máquina más importante del mundo”, utilizados por fabricantes de semiconductores como TSMC e Intel para producir chips avanzados.
Según Michael Purvis, tecnólogo principal de ASML para las fuentes de luz EUV, el nuevo sistema puede mantener una potencia EUV de 1.000 vatios bajo los mismos requisitos operativos que utilizan actualmente los clientes. “No es un simple truco”, afirmó Purvis en una entrevista con Reuters en las instalaciones de ASML en California.
El aumento de potencia de 600 a 1.000 vatios permite a los fabricantes reducir los tiempos de exposición en las obleas de silicio, lo que incrementa el número de chips producidos por hora y reduce el coste por unidad. Teun van Gogh, vicepresidente ejecutivo de la línea NXE de ASML, explicó a Reuters que los clientes podrían procesar alrededor de 330 obleas por hora en cada máquina para 2030, frente a las 220 actuales. Dependiendo del tamaño del chip, cada oblea puede contener desde decenas hasta miles de dispositivos individuales.
Las máquinas EUV de ASML funcionan proyectando luz con una longitud de onda de 13,5 nanómetros sobre obleas de silicio recubiertas con fotorresistencia. La luz se genera al sobrecalentar gotas de estaño hasta convertirlas en plasma mediante láseres de dióxido de carbono. Según Reuters, la nueva técnica duplica el número de gotas de estaño hasta unas 100.000 por segundo y las convierte en plasma utilizando dos pulsos láser en lugar de uno.
Las máquinas EUV son fundamentales para la producción de chips avanzados. Los gobiernos de Estados Unidos han colaborado con las autoridades neerlandesas para restringir las exportaciones del equipo de ASML a China, lo que ha impulsado iniciativas chinas para desarrollar alternativas nacionales.
