Intel utiliza la tecnología High NA EUV de ASML

ASML ha anunciado que Intel Foundry está utilizando su tecnología High NA EUV en el nodo de proceso Intel 18A para fabricar una parte de los procesadores Intel Core Ultra Series 3. Según un comunicado de prensa de la compañía, este hito representa un paso importante para demostrar la preparación de la tecnología High NA EUV en un entorno de producción.

ASML e Intel llevan décadas colaborando estrechamente para impulsar el desarrollo de la tecnología de litografía y apoyar el continuo escalado de los semiconductores. La litografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High NA EUV) constituye la siguiente gran evolución de la litografía EUV, desarrollada por ASML para permitir un patrónado más preciso en la fabricación de chips avanzados.

Los procesadores Intel Core Ultra Series 3, con nombre en clave Panther Lake, están fabricados con el proceso Intel 18A. El uso de la tecnología High NA EUV para definir determinadas capas de estos productos proporciona a ASML e Intel Foundry datos valiosos para seguir optimizando la configuración de los sistemas, su tiempo de funcionamiento y la implementación del proceso de fabricación. Según el comunicado, esto allana el camino para una adopción más amplia de la tecnología y el aprovechamiento de todo su potencial.

«Con una mayor resolución y un mejor control del proceso, la introducción de High NA EUV representa un avance significativo en la litografía de semiconductores», afirmó Christophe Fouquet, presidente y director ejecutivo de ASML. «Nos enorgullece contribuir a hacer posible un patrónado más pequeño y denso que acelerará los avances en inteligencia artificial y otras tecnologías emergentes.»

«Este hito refleja la estrecha colaboración técnica entre Intel y ASML y demuestra cómo la tecnología High NA EUV puede integrarse a gran escala en la fabricación avanzada de semiconductores», afirmó Naga Chandrasekaran, vicepresidente ejecutivo y director general de Intel Foundry. «Al cualificar la opción de proceso High NA EUV para determinadas capas de productos Intel 18A, nuestro parque actual de equipos está proporcionando a los clientes una mayor capacidad de producción, mientras desarrollamos futuras soluciones para alcanzar un rendimiento de vanguardia, una mayor densidad y más flexibilidad de fabricación en los próximos nodos tecnológicos.»

En 2024, Intel y ASML completaron la integración del primer sistema comercial de litografía High NA EUV del mundo en el centro de investigación y desarrollo de Intel en Hillsboro (Oregón). Intel Foundry también fue la primera empresa en instalar y superar las pruebas de aceptación del sistema de segunda generación TWINSCAN EXE:5200B, que se basa en el TWINSCAN EXE:5000 y ofrece una mayor productividad, una mejor precisión de superposición (overlay) y una fuente de luz mejorada. Con este anuncio, Intel Foundry se convierte en la primera empresa del sector en suministrar un producto lógico fabricado en gran volumen utilizando la tecnología High NA EUV.