Zeiss abre laboratorio de aplicaciones de semiconductores en Dresde
Zeiss inauguró el laboratorio de aplicaciones de semiconductores Zeiss Microscopy en Dresde, dedicado a abordar los retos del análisis físico y a ampliar los límites del análisis a nanoescala.
Las nuevas instalaciones están situadas en Dresde, Alemania, el corazón del panorama de los semiconductores en Europa. Esta cercanía permite una estrecha colaboración con los clientes y socios de la industria de semiconductores en el análisis de fallos físicos, el desarrollo de materiales y la mejora del rendimiento de los procesos para la lógica y memorias avanzadas. Así como los semiconductores de potencia, los MEMS, el envasado avanzado, etc. El nuevo laboratorio empleará el microscopio electrónico de barrido con haz de iones focalizado (FIB-SEM) Zeiss Crossbeam.
Zeiss tiene como objetivo aumentar la automatización de los flujos de trabajo de microscopía y las técnicas avanzadas para ayudar a la industria de semiconductores a acelerar el análisis de causas y la búsqueda de caminos para los problemas más difíciles de la microelectrónica.
Zeiss invierte en la industria de semiconductores
Este nuevo laboratorio es la tercera gran inversión de Zeiss en aplicaciones de microscopía de semiconductores, y refuerza las capacidades globales de apoyo de la empresa.
El equipo de Dresde colabora estrechamente con sus homólogos de Taiwán y Corea del Sur para compartir conocimientos y mejores prácticas con el fin de atender las necesidades de los clientes en estos tres puntos de referencia mundiales de la excelencia en semiconductores.
El laboratorio de aplicaciones de microscopía de semiconductores se encuentra dentro del Zeiss Innovation Hub de Dresde, inaugurado el pasado mes de mayo.